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2025.02.12 - [반도체 공부/반도체 공정] - 반도체 공정 [10] 식각 공정(Etch) (1) 습식 식각, 건식 식각 반도체 공정 [10] 식각 공정(Etch) (1) 습식 식각, 건식 식각2025.02.12 - [반도체 공부/반도체 공정] - 반도체 공정 [9] 포토 공정(Photolithography) (5) EUV 기술 반도체 공정 [9] 포토 공정(Photolithography) (5) EUV 기술2025.02.12 - [반도체 공부/반도체 공정] - 반도체 공정 [mayunchem.tistory.com    플라즈마는 중성입자, 라디칼, 하전입자( 양성자, 음이온, 전자 )의 집합체로 준중성 상태의 기체이다. 우리가 반도체 공정에서 사용하는 플라즈마는 이온화 비율이 매우 낮은 저온 플..

2025.02.09 - [반도체 공부/반도체 공정] - 반도체 공정 [3] 반도체 공정의 기초 (2) 진공(Vacuum) 반도체 공정 [3] 반도체 공정의 기초 (2) 진공(Vacuum)2025.02.09 - [반도체 공부/반도체 공정] - 반도체 공정 [2] 반도체 공정의 기초(1) ( cleanroom, 공정 설비 ) 반도체 공정 [2] 반도체 공정의 기초 (1) cleanroom, 공정 설비2025.02.09 - [반도체 공부/반도체 공정]mayunchem.tistory.com   플라즈마(Plasma)  플라즈마는 고체, 액체, 기체가 아닌  제 4의 물질 상태로 '기체 상태의 분자나 원자가 이온화되어 양이온과 전자가 섞여있는 상태'로 국부적으로는 극성을 가지지만 전체적으로는 무극성 상태인(중성)..

https://n.news.naver.com/mnews/article/030/0003282238 TEL, 日 미야기현에 플라즈마 식각 장비 공장 건설…“1조원 투자”도쿄일렉트론(TEL)이 약 1조원을 투자, 일본 미야기현에 반도체 플라즈마 식각 장비 공장을 건설한다. TEL은 “빠르게 늘고 있는 반도체 수요 대응을 위해 미야기현에 새로운 생산 시설을 구축, 제n.news.naver.com도쿄일렉트론(TEL) 일본 미야기현 반도체 장비 공장 조감도. (사진=TEL)도쿄일렉트론(TEL)이 약 1조원을 투자, 일본 미야기현에 반도체 플라즈마 식각 장비 공장을 건설한다.TEL은 “빠르게 늘고 있는 반도체 수요 대응을 위해 미야기현에 새로운 생산 시설을 구축, 제조 자회사인 TEL 미야기를 확장할 것”이라며 “오..